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發布時間：2025-04-11 09:13:09
拋光原理：拋光過程涉及兩個核心原理，即微粒研磨原理和物理化學原理。
微粒研磨原理：在拋光過程中，隨著磨料顆粒從粗到細的變化，石材表麵被磨削得越來越光滑，直到達到鏡麵光澤。這一過程使得石材表麵變得光滑、平整且細膩。當磨削深度達到110微米時，被加工的石材表麵會出現鏡麵光澤，光彩奪目，色澤也更加鮮豔。
物理化學原理：拋光過程分為幹拋光和濕拋光兩種方式。在幹拋光過程中，溫度升高和水分蒸發使得拋光磨石的濃度增加，光澤度可提升至90度以上。經過幹拋光後，產品的光澤度可達到90度以上甚至更高。
使用方法與注意事項
使用方法
在拋光前，應確保表麵幹淨，無塵、汙染物、脫屑和蠟狀物。首先使用調B劑對要拋光的物表麵進行拋光，建議采用中、高密度的羊毛拋光墊，並噴灑1-2次拋光劑，直至拋出晶瑩的效果為止。接著，再噴灑1-2次A拋光劑，交替噴灑A和B拋光劑以達到理想效果，光澤度可達到90度以上甚至更高。
注意事項
藥劑應避免混合，以防止不良的化學反應。
施工完成後，應保持石材表麵的幹燥，並在3小時內避免弄髒或踏入。
在拋光過程中，若發現拋光磨石燙手，可適量加入少量水進行降溫，但需注意避免連續或大量加水，以確保拋光效果達到理想狀態。
