石材拋光是將拋光磨石放在被加工的產品上，用機械設備快速運轉及“幹拋光、濕拋光”來達到拋光效果，然後產品表麵會出現很強的反射光，這就是通常所說的光澤度。石材拋光當磨料顆粒由粗磨到細磨、拋光時，磨料在石材表麵磨削的痕跡會由粗到細再到無肉眼看到的痕跡。其表麵便呈現光滑、平整、細膩，當深度達110微米時，被加工麵出現鏡麵光澤，光彩照人，色澤鮮豔。

　　石材拋光原理：

　　1、理化學原理：拋光的過程有2個，即“幹拋光、濕拋光”，拋光磨石在“幹與濕”之間，當石材產品發生物理化學作用，幹拋光是在石材表麵溫度升高使水分蒸發，導致拋光磨石濃度增大，從而達到強化效果，產品光澤度開始達到了理想要求，光澤度達85度以上或更高。

　　2、拋光磨石在被加工產品上拋光，待拋光產品燙手後，將板麵加水量水，以起到降溫作用，不允許連續加水或大量加水，否則，水的潤滑作用將會使拋光達不到理想效果，也不能全部使用幹拋光，過高的溫度會燒壞板麵，而且會使板麵出現裂紋。

　　3、一般而言，產品精磨後，產品的光澤度在40~50左右，而有些石材精磨後達不到上麵的光澤度，如山西黑、黑金砂、集寧黑等，此類產品精磨後的光澤度隻有20~30度之間，用前麵的微粒研磨原理解釋不夠一麵，這種產品在拋光“幹與濕”，溫度的升高，降溫中強化拋光過程，發生物理化學反應，產品在經過“幹拋光、濕拋光”中，光澤度逐步提高，光澤度達85度以上。

　　石材拋光工藝參數：

　　工藝參數有拋光劑的濃度和供給量，拋光時的壓力和線速度等。在小於某一濃度值之前，拋光速度隨拋光劑濃度的增加而增加，濃度值達較大之後，若再增加濃度，拋光速度反而降低。同樣，拋光劑的供給量在一定值時，拋光速度較大，之後若繼續增加供給量，拋光速度反而降低。適當增加拋光時的壓力，可以增加拋光速度，但壓力過大，磨削作用加強，不利於光澤麵的形成。拋光速度取決於拋光盤(具)的轉速，但線速度過大，拋光劑將會被甩出，造成浪費。